Hellas

Установка двухстороннего экспонирования

Высокоточное вакуумное устройство экспонирования специально разработано для двустороннего контактного экспонирования на предварительно подготовленных материалах, таких как трафаретные клише, печатные платы, лицевые панели, фотопленки и другие покрытия, чувствительные к УФ лучам после специальной обработки.

Особенности:

  • 2×6 сверхактиничные УФ -лампы, каждая по 20 Вт
  • Особые отражатели для минимизации затенений
  • Аналоговый дисплей с ярким излучением
  • Нижняя поверхность экспонирования сделана из особого стекла толщиной 8 мм
  • Верхняя зона экспонирования выполнена из структурированной пленочной фольги в прочной раме
  • Рабочая зона: 570 × 300 мм
  • Устройство применимо для производства печатных плат высоких классов точности
  • Необслуживаемый вакуумный насос (80%) с градуированным дисплеем и производительностью 1380 л/час при постоянной нагрузке
  • Цифровой таймер: от 1 сек до 99 мин с обратным отсчетом, автоматический сброс параметров и бипер
  • Встроенный вентилятор
  • Возможно независимое использование верхнего или нижнего модуля для экспонирования
  • Прочный стальной корпус

Характеристики:

  • Размеры (Д × В × Ш): 62 × 24 × 65 см
  • Вес: 40 кг
  • Электропитание: ~230 В, 50 Гц, примерно 800 Вт

Видеопрезентация